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冷静不要捧杀!关于华为两年研发出5nm光刻机的传言:我们需要的是实干而不是谎言我们都很希望华为能尽快搞出来光刻机,来打破美国对我们芯片产业的命门封锁,愿望很美好,但现实很残酷,而越是在困境中,我们越是需要冷静。在80年代底,由于中国信奉“造不如买”的发展理念,导致中国半导体行业停滞不前,直到2002年,国家开始重视光刻机的研发。就是国家倾尽全力,经过近20年的发展,虽然缩小一点差距,我们和最先进的光刻机还有相当远的差距,特别是在光刻机光学镜头模组上,很难短时间实现突破,需要国家多行业全面研发的布局。EUV光刻机是目前世界最先进的光刻机,采用EUV光源,使用的光波波长只有13.5nm,NA(数值孔径)为0.33,目前全球只有荷兰ASML能生产EUV光刻机,售价高达1.2亿美元。丝瓜视频uos二维码EUV光刻机的巨大优势是不需要多重曝光,一次就能曝出想要的精细图形,没有超纯水和晶圆接触,在产品生产周期、光学邻近效应矫正的复杂程度、工艺控制、良率等方面都有明显优势。格芯首席技术官Gary Patton曾说:“如果在5nm的时候没有使用EUV光刻机,那么光刻的步骤将会超过100步”。我们看到华为在招聘光刻工程师,也看到了华为早在16年就申请了光刻设备专利,说明华为在这方面是有技术储备的,至于华为是否真正进入光刻机制造领域,还要看华为官方的说法和行动,要冷静的、尊重科学发展规律的去看待。我们需要尽快在打破这种僵局,实现芯片制造核心设备的突破,但不是用谎言去画出未来的美好,这只是麻痹我们自己的泡沫,一戳就会破。我们需要的是实干,而不是谎言,就算华为真的涉足光刻机制造领域,但要搞出来最先进的光刻机,也不是一朝一夕的事情,可能需要相当长的时间,支持华为可以,也理解希望华为越来越好的心情,但一定不要捧杀华为!

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